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海思光刻机11月集中交付 12寸/8寸/6寸齐发日本等国 据江苏海思（HISIGK）官方披露，其11月迎来集中出货节点，一批全自动双面对准光刻机完成调试并整装待发。本次交付覆盖12寸、8寸、6寸多尺寸平台，分别发往日本MEMS制造企业、AR光波导头部企业及LED芯片企业。 本次交付的核心是5台12寸光刻机。其中3台采用FOUP天车自动上料方案，匹配12寸晶圆量产产线，实现上料、对准、曝光、下料全流程自动化。该机型可适配超表面光学、硅基微透镜、AR光波导等器件的双面图形套准需求。 同期交付的还有4台8寸双面自动对准光刻机和5台6寸全自动光刻机。8寸机型主要面向MEMS传感器和微流控器件制程；6寸机型则聚焦氮化镓、碳化硅等化合物半导体及LED芯片、功率器件领域，在曝光均匀性与良率控制上具备优势。 与追求极限制程的EUV光刻机不同，江苏海思聚焦于接近式与接触式光刻赛道。本次覆盖三种尺寸平台的双面对准设备，为国内微纳光学、MEMS产线提供了极具适配性的国产化替代方案，有效避开了对进口高端设备的依赖。 从12寸全自动量产机型到6寸特色工艺机型，江苏海思在多尺寸双面对准平台的布局正加速落地。随着这批设备进驻国内外客户产线，国产特色半导体装备的渗透率将进一步提升。 https://www.cnbeta.com.tw/articles/tech/1585756.htm

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